當前反滲透膜廣泛應用于電鍍廠純水制作等領域。而膜污染的控制問題是該項技術發(fā)展的限制因素之一，化學清洗是控制膜污染的主要方法。有很多文章介紹反滲透膜的污染原因和清洗方法。但在實際操作中，還是需要根據實際情況對清洗工藝和方法進行調整。通過分析某電鍍廠純水系統(tǒng)反滲透膜的污染原因及清洗方法，以達到為純水制作過程中反滲透膜的清洗提供簡單有效的解決方案。 電鍍廠的純水系統(tǒng)一般包括砂濾與活性炭兩級過濾和陰陽樹脂交換及反滲透膜，通過此系統(tǒng)把地表水或者自來水制成電導率≤20us/cm合格的生產用水,例如某純水系統(tǒng)自投入使用至現在己有3年多，使用自來水為進水水源。雖然自來水水質時好時壞，因為有良好的預處理系統(tǒng)作為屏障，所以純水系統(tǒng)的運行狀況基本穩(wěn)定，出水水質能夠達到設計標準。但是近來純水系統(tǒng)運行工況明顯變差，產水水量和水質均下降，各段間壓差也明顯增加，為此廠方對反滲透膜進行化學清洗。污水池清掏，但清洗不久后系統(tǒng)產水量隨之下降，出水水質不理想，說明清洗效果并不理想。膜系統(tǒng)經過清洗后性能仍無法得到有效恢復。查閱國內外清洗技術的有關文獻及膜技術資料，結合工作經驗及純水系統(tǒng)的實際運行情況,設計配制了有效的清洗容液，得到了較好的清洗效果。由于自來水的水量不足，及節(jié)約用水費用，廠方增加了反滲透系統(tǒng)的濃水回流比，其直接的結果是造成系統(tǒng)排污不足，濃縮比過高，這就導致系統(tǒng)過度濃縮。而過度濃縮會使系統(tǒng)結垢的風險急劇增加，而系統(tǒng)一旦結垢，主要表現為標準透水量下降，脫鹽率降低。即使過度濃縮時間很短，一旦生成碳酸鈣結晶體，也會引起結晶生長擴散!二是阻垢劑的加藥量不足。甚至出現了很長有段時間都沒有投加阻垢劑的情況。藥劑的投加量不足，沒有起到完全的阻垢作用，給系統(tǒng)的運行帶來了污堵,廠方還使用過地表水為進水水源.結合現場的情況及上述污染原因分析，可以知道整個膜系統(tǒng)存在嚴重的結垢、有機物污染、微生物污染、甚至是鐵污染等。污水池清掏因為污染較為嚴重，濾膜的清洗方法分三步： 1)配制2%左右檸檬酸純水溶液，松動污堵物、清洗垢類及松動金屬氧化物。清洗藥液溫度調到40℃左右。pH值控制在3.0~3.5。循環(huán)清洗60min，浸泡120min，然后再循環(huán)清洗50～60min。清洗后用鈍水沖洗干凈; 2)次氯酸鈉殺菌,配置100ppm的次氯酸鈉對系統(tǒng)進行循環(huán)殺菌，時間為60min，殺菌后用水沖洗干凈; 3)高效清洗劑進行清洗。 清洗方案確定后，清洗操作是清洗效果良好的有效保證。在清洗過程中，需要控制清洗液的溫度、pH和清洗流量等參數在清洗方案設計的范圍內。若污染的情況比較嚴重，則可以采取循環(huán)清洗、浸泡、再循環(huán)清洗的方式，可獲得較好的清洗效果。污水池清掏由于本系統(tǒng)的污染情況較嚴重，所以按照上述的清洗方案進行了多次反復的清洗。清洗后系統(tǒng)的產水由原來的5t/h增加到7.5t/h，系統(tǒng)的跨膜壓差降到正常水平。反滲透系統(tǒng)出水能力明顯提高，各段壓差已經降低，產水水質明顯提高，電導率下降幅度較大。